蚀刻简介
蚀刻是一种用于金相学研磨和抛光工艺之后的化学或电解工艺。
蚀刻有助于提高表面对比度，形象展示微观或宏观结构。
材相学中的蚀刻可在晶界、相位或颗粒表面上受控地影响表面轮廓或光学性能，有助于实现微观检查以及光学滤镜在显微镜中的其他用途。在蚀刻工艺之前开展的制备必须符合调查目标。
碳钢：
酒精硝酸。
如何进行蚀刻
方法选择步骤：
- 样品初始抛光需要达到一个无变形或划痕的光滑表面。
- 可在列出的文献资料中选择适用于材料的适当蚀刻液。
- 在某些情况下，除化学蚀刻工艺之外，还可使用光学显微镜滤镜提高对比度。这被称为光学蚀刻。
- 如果是电解蚀刻，则须选择适当的电解液、电压和样品曝光时间。
材料和蚀刻剂
以下表格列出了其中一些蚀刻剂示例：
高合金钢
彩色蚀刻剂(Beraha Lichtenegger),含有盐酸的V2A-lye或阿德勒蚀刻剂。
高合金钢
使用乙二酸进行电解液蚀刻。
铝和铝合金：
巴克
铜和铜合金：
克莱姆试剂的变形
蚀刻类型
下文将介绍几种蚀刻类型。
化学蚀刻
化学蚀刻需将制备的样品，通常经过研磨（用于宏观蚀刻）或精细抛光（用于微观蚀刻），完全浸入蚀刻液（蚀刻剂）中。
宏观蚀刻允许使用眼睛或放大镜(最大放大倍数为25x)检查样品表面。微观蚀刻允许在放大1000 ×(光学显微镜)或更大倍数(电子显微镜)的情况下执行微观检查。
溶解蚀刻可专门腐蚀晶界、表面或相位。
在沉降蚀刻（也被称为着色蚀刻）过程中，会在表面上形成一定厚度的薄层，厚度视颗粒的化学成分或方向而定。
电解蚀刻
电解蚀刻需要一个均匀导电的工件。表面最初所需的抛光可能是短时间的机械研磨和抛光，以形成平直度更好的表面，但存在变形和/或划痕问题。电解抛光可降低因倒角和相位冲刷导致的变形度。
电解蚀刻与化学蚀刻的原理相同，只是电解蚀刻需将样品放在原电池的阳极，以去除样品表面的材料。对于铝基材料的特殊检查,可使用可在抛光样品表面形成阳极氧化膜的电解蚀刻,并使用偏振光进行分析(Barker-etching)。
故障排除 - 蚀刻
问题：
试样制备不当
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解决方法：
两种方法都允许出现划痕和变形现象。但是，根据制备目标，划痕和变形现象可覆盖或影响蚀刻之后可见的相位或结构。
电解液不适用
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解决方法：
如果使用的是不适用的电解液或蚀刻剂，则无法根据所需参数检验表面结构。
电压和暴露
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解决方法：
使用电解蚀刻时，电压和暴露时间对于显露正确的表面结构而言至关重要，这有助于进行有效验证。使用化学（湿）蚀刻时，暴露时间以及温度（在某些情况下）是极为重要的参数。
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